|
|
Plazmonické struktury vytvořené pomocí elektronové litografie
Šimík, Marcel ; Urbánek,, Michal (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby plazmonických struktur pomocí elektronové litografie. Základním úkolem práce je vytvořit struktury publikované v NatureNanotechnology s použitím rezistu PMMA. Je vytvořeno několik variant motivů struktur s různými expozičními dávkami a tvary, aby bylo možné stanovit nejvýhodnější variantu. Z těchto variant je vyvozeno, které jsou nejefektivnější s použitím optického a elektronového mikroskopu. S těmito informacemi jsou vytvořeny a vyhodnoceny velkoplošné expozice.
|
|
|
Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem
Šuľan, Dušan ; Horáček,, Miroslav (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby struktur pomocí elektronové litografie. Základním zaměřením práce je stanovení křivek citlivosti rezistu PMMA pro elektronový litograf Vistec EBPG 5000+ ES. Křivky citlivosti jsou stanoveny pro různé vývojky, doby vyvolávání a hloubky rezistu. Z těchto křivek jsou poté určeny citlivosti a kontrasty pro danou soustavu rezist-vývojka. Následně jsou křivky citlivosti aplikovány na korekce proximity efektu u reálných struktur, konkrétně u difrakčních periodických mřížek a potom vyhodnoceny.
|
|
|
Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem
Šuľan, Dušan ; Horáček,, Miroslav (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby struktur pomocí elektronové litografie. Základním zaměřením práce je stanovení křivek citlivosti rezistu PMMA pro elektronový litograf Vistec EBPG 5000+ ES. Křivky citlivosti jsou stanoveny pro různé vývojky, doby vyvolávání a hloubky rezistu. Z těchto křivek jsou poté určeny citlivosti a kontrasty pro danou soustavu rezist-vývojka. Následně jsou křivky citlivosti aplikovány na korekce proximity efektu u reálných struktur, konkrétně u difrakčních periodických mřížek a potom vyhodnoceny.
|
|
|
Plazmonické struktury vytvořené pomocí elektronové litografie
Šimík, Marcel ; Urbánek,, Michal (oponent) ; Krátký, Stanislav (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby plazmonických struktur pomocí elektronové litografie. Základním úkolem práce je vytvořit struktury publikované v NatureNanotechnology s použitím rezistu PMMA. Je vytvořeno několik variant motivů struktur s různými expozičními dávkami a tvary, aby bylo možné stanovit nejvýhodnější variantu. Z těchto variant je vyvozeno, které jsou nejefektivnější s použitím optického a elektronového mikroskopu. S těmito informacemi jsou vytvořeny a vyhodnoceny velkoplošné expozice.
|
host ::
RSS.